摘要
氧化锌(ZnO)作为一种宽禁带直接带隙半导体材料，在光电子器件领域拥有巨大的应用潜力。
氮掺杂是调控ZnO薄膜光学特性、提升其光电性能的重要手段。
而退火作为一种重要的热处理工艺，对氮掺杂氧化锌薄膜的晶体结构、表面形貌以及光学性质具有显著影响。
本文综述了近年来国内外在退火对氮掺杂氧化锌薄膜的光学特性影响研究方面取得的进展，包括退火温度、气氛、时间等对氮掺杂氧化锌薄膜的晶体结构、表面形貌、光吸收、透射率以及光催化性能的影响。
探讨了退火过程对氮掺杂氧化锌薄膜光学特性影响的机制，并展望了该领域未来的研究方向。
关键词：氧化锌；氮掺杂；退火；光学特性；薄膜
氧化锌(ZnO)作为一种II-VI族化合物半导体材料，具有宽禁带（~3.37eV）、高激子束缚能(60meV)、优异的光化学稳定性、低成本以及环境友好等优点，在透明导电膜、气敏传感器、压电器件、太阳能电池、紫外探测器和光催化等领域展现出巨大的应用潜力[1-3]。
然而，ZnO本征缺陷的存在，例如氧空位和锌间隙，限制了其进一步的应用。
为了克服这些限制，研究人员探索了各种方法来改善ZnO的性能，例如掺杂、合金化和纳米结构化等。
其中，掺杂被认为是调控ZnO材料的电学和光学特性最有效的方法之一。
剩余内容已隐藏，您需要先支付 10元 才能查看该篇文章全部内容！立即支付
以上是毕业论文文献综述，课题毕业论文、任务书、外文翻译、程序设计、图纸设计等资料可联系客服协助查找。
